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專輯導覽

由工研院量測中心出版以提供最新量測科技訊息為主的【量測資訊】雙月刊,本期「顯微奈米量測技術」專輯中,專訪報導並詳盡剖析奈米量測技術在台灣的未來發展。

 

奈米科技產業,廣泛應用光學檢測儀器或使用接觸式量測系統,進行樣品之三維表面形貌量測,為了有正確量測結果,特別介紹「干涉顯微鏡專用各式標準片之製作與測試結果」,工業技術研究院量測技術發展中心長度研究室自三年前即投入標準片之開發製作,最終以鑽石車削與半導體製程兩種方法分別開發出不同尺寸的階高標準片,亦以半導體製程方法製作出校正顯微鏡適用之刻度尺以及不同深寬比之檢測試片,此標準片已可提供業界購買使用。

 

「小角X-射線散射用於半導體關鍵尺寸的量測應用」,為了因應半導體製程線寬的縮小,更準確量測關鍵外形,其待測參數的數目將會增加,且關鍵外形尺寸,亦受限於光學之繞射極限影響,無法同時得到三維尺寸奈米等級解析度,但橫向解析度受限於光學之繞射極限,分辨率只能約0.1 m。所以必需發展新的量測技術,以解決關鍵參數三維尺寸檢測。小角X-射線散射術是一種透射技術,波長在angstrom等級,當X-射線穿透具空間周期性結構的樣品後,擷取散射圖案,利用繞射理論模型進行數據分析,可得到週期性結構的關鍵參數,其模型簡單,可以建立快速且即時的測量及數據分析。

 

「光纖式動態光散射粉體粒徑量測系統之研發」,藉由創新性之光纖探頭,研製線上粉體取樣與粒徑量測系統,可大幅降低光路對準之繁雜程序,以及不受量測距離限制等優點,可量測奈米顆粒製程之粒徑與參數分析,其量測之平均粒徑最大誤差值在6%以下,量測濃度範圍在0.08%~9%範圍內。

 

「晶圓表面奈米微粒的偏振散射光量測技術」介紹非接觸式與快速的光學檢測技術,利用Bidirectional Reflectional Distribution Functions(BRDF)來分析,量測奈米微粒的粒徑、分佈等參數。

 

本專欄的「顯微奈米量測技術」」,將奈米科學技術轉化為產業應用技術,強化台灣科技產業未來競爭力。 

 

量測資訊訂閱專線:03-5732265

 

目錄介紹

 

118

第 118 期
特別報導  
台灣奈米量測技術之發展 林仁輝

專輯:  顯微奈米量測技術  
顯微奈米量測技術專輯前言( jpg ) 劉惠中
晶圓表面奈米微粒的偏振散射光量測技術( jpg ) 劉承揚、劉子安、傅尉恩
干涉顯微鏡專用各式標準片之製作與測試結果( jpg ) 陳彥良、潘善鵬、劉惠中
小角X-射線散射用於半導體關鍵尺寸的量測應用( jpg ) 傅尉恩
光纖式動態光散射粉體粒徑量測系統之研發( jpg ) 陳亮嘉

計量儀器與技術  
液晶顯示器校正概述( jpg ) 徐紹維
平面顯示器影像品質簡介( jpg ) 彭保仁
靜態可攜式軸重衡器之檢測研究( jpg ) 盧勇誌、吳國真
BRDF對位驗證方式( jpg ) 劉玟君、于學玲
1/1 及1/3倍頻濾波器檢測技術( jpg ) 郭淑芬
可量測八度頻寬之半自動化光頻計數器( jpg ) 劉子安、徐仁輝、彭錦龍
微拉力試驗機之機械性質量測技術( jpg ) 吳忠霖、葉銘泉

品保/認證/驗證焦點  
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全球計量動向  
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新產品/新技術櫥窗  
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