長度標準

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服務之儀器 
(1) 二氧化矽薄膜標準片(SiO2 Silicon Dioxide Reference Materials) (使用分光式橢圓偏光儀)
(2) 薄膜標準片(SiO2, HfO2, Al2O3 Reference Materials) (使用X射線儀)
(3) 孔隙薄膜標準片[材質:SiOCH,膜厚:2 nm to 200 nm] (Porous Thin Film Standards) (使用X射線孔隙反射儀)
校正範圍 
(1) 1.5 nm to 1000 nm
(2) 1.5 nm to 200 nm
(3) 標稱孔徑尺寸為2.0 nm
不確定度  (1) 0.10 nm
(2) 0.02 nm
(3) 0.3 nm
校正點數說明  只量測送校薄膜片鍍膜區塊之中心點
校正費用  (1) 13,000元/點
(2) 32,500元/點
(3) 33,000元/點
送校件須知 
1. 若為初校,請隨附原廠報告;若為再次送校,則請附前次送校之工服編號
2. 項(1)(2)請註明送校晶片校正前是否需要清洗處理
3. 項(3)送校件尺寸須介於 1 cm × 1 cm 與 3 cm × 3 cm 之間
4. 項(3)送校薄膜之量測表面靠近量測參考部位(中心)不可有刮痕或銹斑等現象
5. 項(3)試片需可加熱至400 °C,去除水氣雜質以進行校正
6. 請於預約單的指定時間與指定地點送件,不接受提早收件
7. 送件方式:自行送件或快遞送件(附切結書於外包裝),經校正人員當場簽收,不接受其他送件方式

(圖說) 本實驗室提供校正/驗證系統之服務規格說明及送校件須知等

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