| 服務之儀器 |
(1) 二氧化矽薄膜標準片 (SiO2 Silicon Dioxide Reference Materials) （使用分光式橢圓偏光儀）
(2) 薄膜標準片 (SiO2, HfO2, Al2O3 Reference Materials)（使用 X 射線儀） (3) 孔隙薄膜標準片 (材質：SiOCH，膜厚：2 nm to 200 nm) (Porous Thin Film Standards)（使用 X 射線孔隙反射儀）
|
|---|---|
| 校正範圍 |
(1) 1.5 nm to 1000 nm
(2) 1.5 nm to 200 nm (3) 標稱孔徑尺寸為 2.0 nm
|
| 不確定度 | (1) 0.10 nm (2) 0.02 nm (3) 0.3 nm |
| 校正點數說明 | 只量測送校薄膜片鍍膜區塊之中心點 |
| 校正費用 | (1) 13,000 元／點 (2) 32,500 元／點 (3) 33,000 元／點 |
| 送校件須知 |
|
(圖說) 本實驗室提供校正/驗證系統之服務規格說明及送校件須知等
