技術簡介
為因應國內半導體先進微影技術發展，國家度量衡標準實驗室啟動發展極紫外(EUV)波段光輻射量測與校正技術，首先進行的是EUV光偵測器分光響應校正系統與技術之建立。
光偵測器之光輻射特性評估量測技術，可提供 EUV 光偵測器之光輻射計量標準，其中包含 EUV光偵測器響應校正系統與分光輻射標準追溯，實驗室將光輻射標準由 UV 推展至EUV，新開發光輻射標準之波長範圍為 10 nm 至 20 nm，可將輻射響應標準傳遞於 EUV 光偵測器，以滿足目前 EUV 微影製程檢測設備生態系之計量標準需求。
應用場域
可提供產業服務的對象/領域包括：半導體檢測廠商相關檢測設備開發、先進半導體材料開發。提供EUV光偵測器響應標準與校正服務、EUV光阻檢測設備與光阻材料特性定量量測、EUV輻射劑檢測儀開發與應用、EUV光罩檢測設備與光罩缺陷修復設備開發、EUV光測器特性檢測等技術移轉項目。
技術服務窗口
陳政憲 電話：03-5919214； E-mail： ChrisCHChen@itri.org.tw
張貼日期: 2022年8月